XUV-Spektralphotometer zur kostengünstigen Charakterisierung von Optiken entwickelt

Der Trend der Halbleiterindustrie hin zu immer kleineren Strukturen unter Zuhilfenahme von Strahlung immer kürzerer Wellenlänge hat in der Vergangenheit eine Vielfalt innovativer Produkte ermöglicht. In den kommenden Jahren wird für die industrielle Fertigung Strahlung im extremen Ultraviolett zunehmend an Bedeutung gewinnen. Damit rückt die Realisierung von praxisnahen EUV/XUV-Strahlquellen mittlerer und kleiner Leistung für Anwendungen auch außerhalb der Lithografie in greifbare Nähe. Der hieraus erwachsende Bedarf an Messverfahren zur Charakterisierung von Komponenten für diesen Spektralbereich hat die Verbundpartner 2003 zur Initiierung des Forschungsnetzwerks SpeXUV - "Anwendungsnahe Analyseverfahren mittels XUV-Spektralphotometrie" - im Rahmen des BMWi-Förderprogramms InnoNet veranlasst.

Am 14. März werden die Ergebnisse im Rahmen eines PhotonicNet-Forums am Laser Zentrum Hannover präsentiert. Im Mittelpunkt steht der im Projekt entwickelte Prototyp eines XUV-Spektralphotometers. Des Weiteren sind Fachvorträge zur Entwicklung von Laborstrahlquellen für extreme UV-Strahlung sowie praktische Vorführungen und Diskussionsforen über Einsatzgebiete der Messverfahren auch außerhalb der EUV-Halbleiterlithographie vorgesehen.

Ziel des Netzwerks war es, geeignete Verfahren zur Charakterisierung neuartiger Materialien und Komponenten in Bezug auf ihre Einsetzbarkeit im EUV/XUV-Spektralbereich zu erarbeiten und eine kostengünstige Umsetzung für kleine und mittlere Unternehmen sowie Forschungsinstitute zu gewährleisten. Dies ist mit dem im Verbundprojekt entstandenen XUV-Spektralphotometer gelungen. Es lässt sich zur Charakterisierung, Optimierung und Qualitätssicherung spezieller Schichtsysteme sowohl in der grundlagenorientierten Forschung als auch in der Halbleiterlithographie anwenden. Die Entwicklung von Schichtsystemen und Optikkomponenten wird damit zukünftig schneller und preisgünstiger, weil nicht mehr auf Messapparaturen an Beschleunigern und Großforschungseinrichtungen zurückgegriffen werden muss.

Quelle: idw / PhotonicNet GmbH