ICP-Emissionsspektrometrie - Grundlagen, Methodenentwicklung und Auswertung
Die optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP OES) bietet sich als ideale Messtechnik für die simultane Bestimmung von Schwermetallen und Spurenelementen an.
Der zweitägige Kurs vermittelt Ihnen neben den Grundlagen und dem Stand der Gerätetechnik insbesondere die Aspekte beim praktischen Arbeiten mit der ICP OES. Probenvorbereitung, Probenzuführung, Kalibrierung, Untergrundkompensation und eine matrixangepasste Methodenentwicklung sind ebenso Thema wie eine Übersicht über Stärken und Schwächen der unterschiedlichen Gerätetechniken.
Inhalt:
- Physikalische Grundlagen der ICP OES
- Allgemeiner Aufbau
- Probenzuführung, Zerstäuber und Plasmafackel
- Axiale und radiale Beobachtung des Plasmas
- Optik und Detektoren
- Gerätetypen
- Aufschlusstechniken und Probenvorbereitung
- Methodenentwicklung in der ICP OES
- Spektrale Störungen und Untergrundkorrektur
- Nicht-spektrale Störungen erkennen und vermeiden
- Kalibrieren und Grundzüge der Validierung
- Pflege und Wartung, Trouble-Shooting
- Demonstrationen zu den theoretischen Inhalten.
Zielgruppe:
Angesprochen sind sowohl Einsteiger als auch erfahrene Anwender atomemissionsspektrometrischer Verfahren (ICP OES) in der Element- und Spurenanalytik sowie Betreiber analytischer Laboratorien und Institute, die sich einen Überblick verschaffen möchten.
» Programmdetails und Anmeldung
KIT - Campus Nord - Gebäude 101
Hermann-von-Helmholtz-Platz 1
D-76344 Eggenstein-Leopoldshafen
Tel.: +49 721 608-24801
Fax: +49 721 608-24857
Mail: Anfrage versenden
Web: www.fortbildung.kit.edu
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